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低酸素濃度（50ppm以下）
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N2使用量大幅削減
低酸素濃度（50ppm以下）
長時間均一加熱（30分以上）
高温設定（400℃）
低酸素濃度（50ppm以下）
小型リフロー炉（N2対応） UNI-6116α
